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去層研磨鑲嵌

離子刻蝕機(jī)RIE-10NR

加工至?220 mm(?3“x 5,?4”x 3,?8”x 1);

高選擇性各向異性蝕刻滿足嚴(yán)格的工藝要求全自動(dòng)“一鍵式”操作;

自動(dòng)壓力控制,允許獨(dú)立于氣流干泵和系統(tǒng)布局的過(guò)程壓力精確控制,便于維護(hù);

于Windows的用戶界面,豐富的配方和內(nèi)置的數(shù)據(jù)記錄功能,是一個(gè)可靠和持久的系統(tǒng),全球安裝了400多個(gè)系統(tǒng)。


離子刻蝕機(jī)RIE-10NR

產(chǎn)品簡(jiǎn)介 :

RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能、全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),能夠滿足非腐蝕性氣體化學(xué)苛刻的工藝要求。

計(jì)算機(jī)化觸摸屏為工藝配方編程和存儲(chǔ)提供了用戶友好的界面。

該系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精確的側(cè)壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。

憑借其圓滑、緊湊的設(shè)計(jì),RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。

應(yīng)用 :

硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、砷化鎵、鉬、鉑、聚酰亞胺等材料的腐蝕失效分析中的選擇性層腐蝕。

圖片15.png

主要功能和優(yōu)點(diǎn) :

1、加工至?220 mm(?3“x 5,?4”x 3,?8”x 1)。

2、高選擇性各向異性蝕刻滿足嚴(yán)格的工藝要求全自動(dòng)“一鍵式”操作。

3、自動(dòng)壓力控制,允許獨(dú)立于氣流干泵和系統(tǒng)布局的過(guò)程壓力精確控制,便于維護(hù)。

4、于Windows的用戶界面,豐富的配方和內(nèi)置的數(shù)據(jù)記錄功能,是一個(gè)可靠和持久的系統(tǒng),全球安裝了400多個(gè)系統(tǒng)。

主要參數(shù)規(guī)格 :

基板

220 mm(?3“x 5,?4”x 3,?8”x 1)

負(fù)載

開放式

上下電極

?240 mm

射頻功率

300瓦@13.56兆赫,自動(dòng)匹配(500瓦為選項(xiàng))

可切換射頻供電電極(陽(yáng)極/陰極模式)為選項(xiàng)

氣體管道

內(nèi)部2條MFC控制的氣體管道(最多6條)

干泵(500升/分鐘)

操作系統(tǒng)

觸摸屏操作(可選擇基于Windows的用戶界面)、配方管理

端點(diǎn)檢測(cè)

光學(xué)發(fā)射光譜(OES)作為一種選擇

尺寸

500 mm(寬)x 920 mm(深)x 1501 mm(高)

圖片16.png

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