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產(chǎn)品展示
電子光學(xué)
NICol非浸沒(méi)式超高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描鏡筒，配有：
? 高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子搶?zhuān)糜谔峁┓€(wěn)定的高分辨率分析電流
? 60度雙物鏡透鏡，支持傾斜的樣品
? 全自動(dòng)加熱式光闌，可確保清潔和無(wú)接觸式更換光闌孔
? 連續(xù)電子束電流控制和優(yōu)化的光闌角度
? 電子槍安裝和維護(hù)簡(jiǎn)單－自動(dòng)烘烤，自動(dòng)啟動(dòng)，無(wú)需機(jī)械合軸
? 雙物鏡透鏡，結(jié)合電磁透鏡和靜電透鏡
? 兩級(jí)掃描偏轉(zhuǎn)
? 雙物鏡透鏡，結(jié)合電磁透鏡和靜電透鏡
? 電子源壽命至少24個(gè)月
電子束分辨率
在好的工作距離下
? 30keV下 STEM 0.7nm
? 1keV 下 1.4nm 15keV下1nm
? 1keV下 電子束減速模式 1.2nm
創(chuàng)新的NICol電子鏡筒為Scios 2 DualBeam 系統(tǒng)的高分辨率成像和檢測(cè)功能奠定了基礎(chǔ)。無(wú)論是在S丁EM模式下以30 keV來(lái)獲取結(jié)構(gòu)信息，還是在較低的能量下從樣品表面獲取無(wú)荷電信息，系統(tǒng)可在廣泛的工作條件下提供出色的納米級(jí)細(xì)節(jié)。系統(tǒng)獨(dú)特的鏡頭內(nèi)Thermo Scientific Trinity?檢測(cè)技術(shù)可同時(shí)采集角度和能量選擇性SE和BSE圖像。無(wú)論是將樣品豎直或傾斜放置進(jìn)行觀察，亦或者是觀察樣品截面，都可快速獲取詳細(xì)的納米級(jí)信息?？蛇x配的透鏡下探測(cè)器和電子束減速模式可確保快速、 輕松地同時(shí)采集所高信號(hào)，以顯示材料表面或截面中的較小特征。依托獨(dú)特的NICol鏡筒設(shè)計(jì)和全自動(dòng)合軸功能，用戶可獲得快速、準(zhǔn)確且可重復(fù)的結(jié)果。
Scios 2 DualBeam系統(tǒng)可幫助所有經(jīng)驗(yàn)水平用戶更快、更輕松地獲得高質(zhì)量、 可重復(fù)的結(jié)果。系統(tǒng)提供用戶向?qū)В剐率钟脩艨梢暂p松、 快速地提高工作效率。此外，諸如 ”撤消” 和 ”重做” 之類(lèi)的功能鼓勵(lì)用戶開(kāi)展更多類(lèi)型的實(shí)驗(yàn)。
Scios 2 DualBeam系統(tǒng)專(zhuān)為材料科學(xué)中具有挑戰(zhàn)性的材料微觀表征需求而設(shè)計(jì)，配備了全集成化、極快速M(fèi)EMS熱臺(tái)μHeater可在更接近真實(shí)環(huán)境的工作條件下進(jìn)行樣品表征。110毫米樣品臺(tái)可傾斜至90°，優(yōu)中心工作距離更大，確保了系統(tǒng)好的靈活性。 系統(tǒng)可選配低真空模式，可輕松兼容各種樣昂類(lèi)型和數(shù)據(jù)采集。同時(shí)，系統(tǒng)結(jié)合了擴(kuò)展的沉積和蝕刻功能、 優(yōu)化的樣品靈活性和控制能力，成為通用的高性能FIB /SEM系統(tǒng)，所有這些都由賽默飛的專(zhuān)業(yè)應(yīng)用和服務(wù)支持。
W-Mo-Cu樣品的三維重建，結(jié)合了 BSE （綠色-藍(lán)色）和EDS （桶色）三維數(shù)據(jù)，使用Scios 2 DualBeam系統(tǒng)、 AS&V4以及Avizo軟件生成。
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